Система сверхвысокого вакуума UHV Wafer Module представляет собой бесфланцевое высокопроизводительное решение для геттерного насоса (NEG), подходящее для задач, требующих распределения больших скоростей откачки и производительности для H2 и всех активных газов (H2O, O2, N2, CO, CO2) внутри вакуумных камер. Геттерные диски NEG изготовлены из улучшенной версии сплава ZAO® NEG. Модули UHV Wafer Module позволяют достичь высокой суммарной скорости сорбции даже в системах с ограниченной проводимостью, что обусловлено их компактной конструкцией и равномерным распределением геттерного материала.
Несколько модулей UHV Wafer Module можно запитать одновременно с помощью последовательных и/или параллельных соединений.
Высокая скорость откачки для всех активных газов.
Высокая сорбционная способность и увеличенный срок службы.
Постоянная скорость откачки в условиях высокого (HV), сверхвысокого (UHV) и крайне высокого (XHV) вакуума.
Возможна эксплуатация в условиях сильных магнитных полей.
Без масла, без вибрации.
Небольшой вес.
Улучшение предельного вакуума в комбинации с ионными, диффузионными, криогенными или турбомолекулярными насосами.
Системы анализа поверхности.
Ускорители частиц, источники синхротронного излучения и связанное с ними оборудование.
Портативные вакуумные системы.
Электронная микроскопия.